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过程控制在线质谱分析仪 Aston™

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3 天内发货
品牌:
德国 Pfeiffer
所在地区:
上海
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长期有效
最后更新:
2022-07-01 11:00
浏览次数:
152

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伯东企业(上海)有限公司

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上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™, 通过使用分子传感技术, 提供半导体制程中  ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断, 为半导体过程控制提供解决方案, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 在现有生产工艺工具上加装 Aston, 可在短时间内实现晶圆更高产量!

Aston™ 特性
实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝
半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据
采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用
可与大批量生产工具完全集成
Aston™ 作为一个强大的平台, 可以取代多种传统工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.

Atonarp  Aston™ 技术参数

类型

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

型号

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

质量分离

四级杆

真空系统

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

检测器

FC /SEM

质量范围

2-285

2-220

2-285

分辨率

0.8±0.2

检测限

0.1 PPM

工作温度

15-35“℃

功率

350 W

重量

15 kg

尺寸

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)


Atonarp  Aston™ 应用: 半导体工艺过程控制和优化的重大发展, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新设计坚固耐用的紧凑型在线质谱仪, 适用于半导体制造和工业过程控制应用中气体监测和控制, 高定量精度和实时性与生产稳健性和可靠性相结合, 例如半导体 dry pump 尾气侦测分析, 实现在线监控,诊断.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物过渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:识别跟踪分子
Aston™ 半导体在线质谱仪应用

若您需要进一步的了解 Atonarp  Aston™ 在线质谱仪详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士



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